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尽管的关联词后面是什么,尽管的关联词表示什么关系 半导体突发!中国出手:停止采购!

  大家好,来看一(yī)则突发消(xiāo)息(xī)。

  美(měi)光公司在华销售的产品未通尽管的关联词后面是什么,尽管的关联词表示什么关系过网络安全审(shěn)查

  据网信(xìn)办消息,日(rì)前,网络安全审查办(bàn)公室依法对美光(guāng)公司在华销售产品进行了网(wǎng)络(luò)安(ān)全审查。

  审查发现,美光公(gōng)司产品(pǐn)存在较(jiào)严重网络安(ān)全问(wèn)题隐患,对我国关键信息基础设施供应链造成重大(dà)安全(quán)风险,影响我国国家(jiā)安(ān)全。为此,网络安全审查办公室依法作出不予通过网络安全审查(chá)的结(jié)论。按照《网络安全法》等法律法(fǎ)规,我国内关(guān)键信息基(jī)础设施的(de)运营者应停止采购美(měi)光(guāng)公司产品。

  此次对美光公司产(chǎn)品进行网络(luò)安全(quán)审查,目的(de)是(shì)防范产品网络安(ān)全问(wèn)题危害国(guó)家关键信(xìn)息基础设施安全,是(shì)维护国(guó)家安全(quán)的必要措施。中(zhōng)国坚定推进高水(shuǐ)平对外(wài)开放,只要遵守中国法律法(fǎ)规要求,欢迎(yíng)各国企业、各类平台产品服务(wù)进(jìn)入中国市(shì)场。

  半导(dǎo)体突发(fā)!中国(guó)出手(shǒu):停止采购!

  3月31日,中国(guó)网信网发文称,为保(bǎo)障(zhàng)关(guān)键信息基础设施供应链(liàn)安全,防范产品问题隐患造成网(wǎng)络安全风险,维护(hù)国家安全,依据(jù)《中华(huá)人(rén)民共和(hé)国国家安全法》《中华人民共和国网络安全法》,网络(luò)安全审查(chá)办(bàn)公室按照《网(wǎng)络(luò)安全审查办法》,对美光公司(sī)(Micron)在华销售(shòu)的产品(pǐn)实(shí)施网(wǎng)络安全(quán)审查(chá)。

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  美光是美国的存储芯片行业龙头(tóu),也是全球存储芯(xīn)片巨(jù)头(tóu)之一,2022年(nián)收(shōu)入来(lái)自中国市场收(shōu)入从此前高峰57%降至2022年(nián)约(yuē)11%。根据(jù)市场咨询机构(gòu) Omdia(IHS Markit)统计,2021 年三星(xīng)电子、 铠侠、西部数据、SK 海(hǎi)力士、美光、Solidigm 在全球 NAND Flash (闪存)市场份额约为(wèi) 96.76%,三星电子、 SK 海力士(shì)、美光在全球 DRAM (内存)市场份(fèn)额约为 94.35%。

  A股上(shàng)市公(gōng)司中,江(jiāng)波龙、佰维存储等公司披露过美光等国际存储厂商为公(gōng)司供应商。

  美(měi)光在江波龙采(cǎi)购占比已经显著下降,至少已经不是主要大(dà)供应商。

  公(gōng)告显示, 2021年美(měi)光位列(liè)江波龙第一大存储(chǔ)晶圆供应商,采购约(yuē)31亿元,占比(bǐ)33.52%;2022年(nián),江波(bō)龙第一大(dà)、第二大(dà)和第三大供应商采购(gòu)金(jīn)额占比分别(bié)是26.28%、22.85%和5.76%。

  目前(qián)江波龙已经在(zài)存储产业链上(shàng)下游建立国内外广泛合作。2022年(nián)年报(bào)显示,江波龙与三星、美光(guāng)、西部(bù)数(shù)据(jù)等主要(yào)存储晶圆原(yuán)厂签署了长期合约,确(què)保存储晶圆供应的稳(wěn)定性,巩固公司在(zài)下游市场的供应优势(shì),公司也与国内国产存储晶圆(yuán)原(yuán)厂(chǎng)武汉长江存储、合肥长鑫保持良好的合作。

  有(yǒu)券(quàn)商此前(qián)就分析,如果美光在中国区销售受到(dào)限制,或将(jiāng)导致下游客户转而采购国外三星、 SK海力士(shì),国内长江(jiāng)存储、长鑫存储等(děng)竞对(duì)产品

  分析称,长存、长(zhǎng)鑫的上游(yóu)设备厂(chǎng)或从(cóng)中受益。存(cún)储(chǔ)器的生产(chǎn)已经演进到1Xnm、1Ynm甚至1Znm的工艺。另外(wài)NAND Flash现(xiàn)在已经进(jìn)入(rù)3D NAND时代,2 维(wéi)到3维的结构转变使刻蚀和薄膜成为最关键、最大(dà)量的加工设备。3D NAND每层均需(xū)要(yào)经过薄膜(mó)沉积工艺步骤,同时刻蚀(shí)目(mù)前前沿要(yào)刻(kè)到 60:1的深孔,未来(lá尽管的关联词后面是什么,尽管的关联词表示什么关系i)可(kě)能会更(gèng)深(shēn)的(de)孔或(huò)者沟槽,催(cuī)生更(gèng)多设备需求。据东京电子披露,薄膜沉积设(shè)备(bèi)及刻蚀(shí)占3D NAND产线资本开支合(hé)计为75%。自(zì)长江存(cún)储(chǔ)被加(jiā)入(rù)美国限(xiàn)制名单,设备国产化进程加速,看好拓荆科(kē)技(薄膜沉积)等相关公(gōng)司(sī)份额提升,以及(jí)存储业(yè)务(wù)占比较高的华海清科(CMP)、盛美上海(hǎi)(清(qīng)洗)等收入增长。

 

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